微纳米硅化钼粉
微纳米二硅化钼粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，是一种高级工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔点2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝...
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产品归类 |
型号 |
平均粒径（um） |
纯度 |
比表面积（m2/g） |
体积密度（g/cm3） |
晶型 |
颜色 |
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微纳级 |
CW-MoSi2-001 |
<1.0 |
99.5 |
24.24 |
4.21 |
立方 |
黑色 |
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超细级 |
CW-MoSi2-002 |
1-3um |
99.5 |
17.67 |
4.56 |
立方 |
灰黑色 |
| 喷涂级 | CW-MoSi2-003 | 20-40 | 99.5 | 4.95 | 4.87 | 球形 | 灰黑色 |
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加工定制 |
根据客户需求适当调整产品纯度及粒度 |
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主要特点
微纳米二硅化钼粉通过可变电流激光离子束气相法制备，纯度高，粒径小，分布均匀，是一种工程材料，MoSi2=152.12，密度6.26 g/ cm3，熔点2030℃，具有导电性，在高温下表面能形成二氧化硅钝化层以阻止进一步氧化，MoSi2是Mo-Si二元合金系中含硅量高的一种中间相，具有金属与陶瓷的双重特性。二硅化钼有良好的高温抗氧化性、高温可塑性、导热导电性和流动性，在高温结构陶瓷领域有着广泛的应用应用领域
二硅化钼主要应用作发热元件、集成电路、高温抗氧化涂层及高温结构材料；
二硅化钼作为结构材料用于航空、航天、汽车燃气涡轮机的高温部件。
技术支持
可以提供微纳米二硅化钼粉在发热元件、高温氧化涂层、复合材料中的应用技术支持，具体应用咨询请与销售部人员联系。咨询邮箱sales@cwnano.com QQ892050749
包装储存
本品为抽真空包装，应密封保存于干燥、阴凉的环境中，不宜长久暴露于空气中，防受潮发生团聚，影响分散性能和使用效果。
产品资料、技术咨询、索样：
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